3nm追逐台积电？三星将首家采用高端EUV薄膜(1/1)

集微网音讯，据台媒DIGITIMES报道，三星电子将在其3nm工艺中采用透光率超越90%的最新EUV薄膜（pellicle）以进步良率，这些薄膜未来自韩国公司S&S Tech。光掩膜板资料（Blankmask）公司S&S Tech在2021年消费胜利开发出了透光率达90%的半导体EUV薄膜，一举成为除了ASML之外另一家胜利开发出了透光率超越90%的EUV薄膜的公司。ChosunBiz报道，据业内人士透露，S&S Tech最早将于2023年上 ... [查看原文]

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