Nvidia扔“核弹”，GPU技术助力台积电，计算光刻速度快40倍

我们知道，一颗芯片要制造出来真的不容易，从沙子到芯片，中间要运用几百种设备，几百种资料，经过近5000道工序，最后才构成我们需求的芯片。

而在这个过程中，光刻是其中最复杂、最关键，也是成本最高的环节，占了整个制造成本的三分之一左右。

什么是光刻，即应用光刻机，将掩模板上的电路图，经过投影的方式映照到涂了光刻胶的硅晶圆厂，相似于投影仪的原理，然后把这些光掩膜板上的电路图，刻到硅晶圆片上了。

芯片有多少层电路，就要制造多少张掩模板，然后就要光刻多少次，十分复杂。

在这个过程中，台积电等晶圆大厂，会用到一个技术，那就是计算光刻技术。这个技术是什么？就是经过算法，模仿光经过光学元件并与光刻胶相互作用时的行为，来预测掩膜板上的图案，以便在晶圆上生成最终图案，这样来进步消费效率。

而为了这个计算光刻技术，像台积电这样的晶圆厂，要建一个大型的数据中心，7*24小时运转，每年要耗费耗费数百亿CPU小时，运用大量的CPU芯片。

但是，近日Nvidia这家GPU芯片大厂，针对这个计算光刻技术中止了推翻，推出了一个NVIDIA cuLitho计算光刻库。

依照Nvidia的主法，cuLitho能够将计算光刻的速度进步到原来的40倍。

Nvidia是怎样完成的呢？就是运用大量的GPU芯片，好比Nvidia的H100 GPU芯片来中止计算，而GPU芯片相比于以前的CPU芯片，再分离Nividia的AI技术，更有优势。

Nvidia表示，台积电运用500个DGX H100芯片来中止cuLitho加速，能够替代以往需求40000台CPU效劳器才干完成的计算任务。

同时功率从35MW降至5MW，同时计算光刻速度大幅度提升，以往用CPU时处置单个掩膜板需求两周时间，往常在GPU上运转cuLitho只需8小时。

Nvidia还表示称，这个技术在4年前就开端研发了，并且曾经与ASML、台积电、EDA巨头Synopsys中止了密切的协作。

而台积电也会在今年6月份对cuLitho技术中止消费资历认证，一旦考证胜利，将部署至芯片消费中，大大进步芯片制造效率。

而ASML也表示，后续要将GPU的支持，集成到其一切的计算光刻软件产品中。而Synopsys表示在cuLitho平台上运转新思科技的光学临近校正（OPC）软件，速度能够从几周加速到几天。

说真的，假如Nvidia的这项技术，真的有说的这么神奇，那么关于芯片制造范畴而言，绝对是一个大炸弹，并且属于核弹级的。

经过这项技术，能够大范围的进步芯片消费效率，还能够降低消费成本，进步产能，特别是工艺越来越先进时，这项技术作用越大，接下来，就看台积电以及ASML等厂商的的考证测试结果如何了，一旦全面应用，绝对是属于推翻性的技术。

可见，AI技术真的是在改动我们周边的一切，GPU芯片也会在各行各业产生越来越重要的影响，等候国产GPU站起来，否则随着AI大爆发，我们真要处处受限于人了。